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三星集团的CEO就曾表示:“如果光刻机缺少了光刻胶，那么光刻机就是一堆废铁。”
全世界的光刻胶，前五占了80%左右的份额，除了一家美国企业罗门哈斯，剩下四家全是日本企业。
现在10nm制程以下的光刻胶，基本上只有日企能够生产。
在半导体材料方面，前段工序常用的材料一共19种，其中14种都由日本企业主导。
而在集成电路当中，光刻工艺是最核心、最重要的加工环节，耗时达到整个芯片工艺的40%~50%。
光刻胶又是光刻工艺中最为核心的材料之一，它的纯度、质量都直接决定芯片的良率。
虽然现在日本还没卡死光刻胶出口，但我们必须得加紧国产化的研制。
$彤程新材(SH603650)$
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